科目名 : 高分子制御合成

科目コード 10D647
配当学年 修士課程・博士後期課程
開講期 後期
曜時限 H23年度は不開講(隔年開講科目)
講義室
単位数 2
履修者制限
講義形態 講義
言語 日本語
担当教員 山子茂・辻正樹

講義概要

構造の制御された高分子を合成する反応設計について,有機化学,元素化学,有機金属化学などとの関連から概説する。特に,反応活性種の性質と制御法,さらに,その高分子合成への利用について,基礎から最近の成果までを述べる.また,構造の制御された高分子の微細構造とその形成機構,および,その解析手段について概説する.

評価方法

成績は出席率,レポート,期末試験の結果を総合して判定する.

最終目標

講義計画

項目 回数 内容説明
炭素アニオンとアニオン重合 1 炭素アニオンの構造,安定性・反応性,および反応に影響を及ぼす因子について解説し、アニオン重合の制御法との関連について説明する.
付加重合2.炭素カチオンとカチオン重合 2 炭素カチオンの構造,安定性・反応性,および反応に影響を及ぼす因子について解説し、カチオン重合の制御法との関連について説明する.
付加重合3.炭素ラジカルとラジカル重合 2 炭素ラジカルの構造,安定性・反応性,および反応に影響を及ぼす因子について解説し、ラジカル重合の制御法との関連について説明する.
カルベンとポリメチレン化反応 1 カルベンの構造,安定性・反応性,および反応に影響を及ぼす因子について解説し、ポリメチレン化反応による重合反応の制御の可能性について説明する.
ヘテロ元素活性種と重合反応 1 炭素活性種に対応するヘテロ元素活性種の構造,安定性・反応性について解説し,これらの活性種を重合反応に利用する可能性について説明する.
高分子構造解析入門( 回折と像形成) 6 回折の一般論(波の表現法、伝播と回折)、光の回折と像形成(レンズによる無収差系の像形成、顕微鏡の分解能)、X線回折(電子・原子・原子の集団・理想結晶によるX線の散乱、逆格子とEwald 球、パラクリスタル)、電子顕微鏡(種類、TEM 像のコントラスト、電子レンズと球面収差)

教科書

特に使用しないが,必要に応じて資料を配布する.

参考書

予備知識

京都大学工学部工業化学科「高分子化学基礎I(創成化学)」,「有機化学I, II, III(創成化学)」程度の高分子化学と有機化学に関する入門的講義の履修を前提としている

授業URL

その他